半导体存储器和可编程逻辑器课件.ppt
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1、第7章 半导体存储器和可编程逻辑器件,7.1 概述,1. 集成电路分类,包括门、触发器、计数器、译码器、数据选择器。,(1)标准中小规模集成电路,标准产品的特点是:批量大,成本低,价格便宜。是数字系统传统设计中使用的主要逻辑器件。,缺点是:器件密度低,所构成的数字系统规模大,印刷线路板走线复杂,焊点多,使电路的可靠性差,功耗大。,1,第7章 半导体存储器和可编程逻辑器件7.1 概述1. 集成电,(2)微处理器,缺点:工作速度不够高,另外,这类芯片一般要用多片标准集成电路构成外围电路才能工作。,这类电路的特点:器件密度高,逻辑功能可由软件配置,用它所构成的数字系统硬件规模小,系统灵活性高。,2,
2、(2)微处理器缺点:工作速度不够高,另外,这类芯片一般要用多,半导体存储器是现代数字系统特别是计算机中的重要组成部分之一。 它用于存放二进制信息,每一片存储芯片包含大量的存储单元,每一个存储单元由唯一的地址代码加以区分。,(3)半导体存储器,3,半导体存储器是现代数字系统特别是计算机中的重要组成部分之一。,(4)专用集成电路(ASIC) (Application Specific Integrated Circuit),ASIC是为满足一种或几种特定功能而设计制造的集成电路芯片,密度高, ASIC芯片能取代由若干个中小规模电路组成的电路板,甚至一个完整的数字系统,4,(4)专用集成电路(ASI
3、C)ASIC是为满足一种或几种特定,ASIC分类: ASIC属用户定制电路。(Custom Design IC).包括全定制和半定制两种。,全定制(Full custom design IC):半导体生产厂家根据用户的特定要求专门设计并制造。,特点:生产周期长,费用高,风险大。在大批量定型产品中使用。,半定制(Semi- custom design IC):半导体生产厂家设计并制造出的标准的半成品芯片。,5,ASIC分类: ASIC属用户定制电路。(Custom De,在硅片上预先做好大量相同的基本单元电路,并把它整齐地排成阵列,这种半成品芯片称为母片。母片可由厂家大批量生产。,当用户需制作满
4、足特定要求的ASIC芯片时,可根据设计要求选择母片,由用户或厂家设计出连线版图,再由器件生产厂家经过金属连线等简单工艺,制成成品电路。,缺点:用户主动性差,使用不方便。,特点:周期较短,成本较低,风险小。,半定制电路分类:, 门阵列 (Gate Array),6,在硅片上预先做好大量相同的基本单元电路,并把它整齐地排, 可编程逻辑器件(PLD) (Programmable Logic Device),芯片上的电路和金属引线由半导体厂家做好,其逻辑功能由用户开发实现。,特点:集成度高,速度快,灵活性好,可重复编程。电路设计方便,风险低。,7, 可编程逻辑器件(PLD)芯片上的电路和金属引线由半导
5、体厂,2. PLD器件的连接表示方法,可编程连接,不连接,(1)PLD 器件的连接表示法,8,2. PLD器件的连接表示方法固定连接可编程连接不连接(1),(2)门电路表示法,9,(2)门电路表示法1AA1AAAA反向缓冲器ABC&FABC,缓冲器,10,ABC1FABC1F或门 缓冲器10,(3) 阵列图,11,(3) 阵列图1A1B1C&D=BCE=AABBCC=,7.2 半导体存储器,7.2.1 半导体存储器概述,半导体存储器是用半导体器件来存储二值信息的大规模集成电路。,优点:集成度高、功耗小、可靠性高、价格低、体积小、外围电路简单、便于自动化批量生产等。,12,7.2 半导体存储器7
6、.2.1 半导体存储器概述半导体存储器,1. 半导体存储器的分类,(1)按存取方式分类,只读存储器(Read Only Memory,ROM),随机存取存储器(Random Access Memory,RAM),ROM存放固定信息,只能读出信息,不能写入信息.当电源切断时,信息依然保留.,RAM可以随时从任一指定地址读出数据,也可以随时把数据写入任何指定的存储单元.,13,1. 半导体存储器的分类(1)按存取方式分类 只读存储器随机,(2)按制造工艺分类,双极型半导体存储器,MOS型半导体存储器,以双极型触发器为基本存储单元,具有工作速度快、功耗大、价格较高的特点,主要用于对速度要求较高的场合
7、,如在计算机中用作高速缓冲存储器。,以MOS触发器或电荷存储结构为基本存储单元,具有集成度高、功耗小、工艺简单、价格低的特点,主要用于大容量存储系统中,如在计算机中用作主存储器。,14,(2)按制造工艺分类双极型半导体存储器MOS型半导体存储器以,2. 半导体存储器的主要技术指标,(1)存储容量,指存储器所能存放的二进制信息的总量,(2)存取时间,一般用读(或写)周期来描述,连续两次读(或写)操作的最短时间间隔称为读(或写)周期。,15,2. 半导体存储器的主要技术指标(1)存储容量 指存储器所能,7.2.2 只读存储器(ROM),按数据的写入方式分类,固定 ROM,可编程 ROM,16,7.
8、2.2 只读存储器(ROM)按数据的写入方式分类固定 R,1. 固定 ROM,(1) ROM的结构,17,1. 固定 ROM(1) ROM的结构.A0A1An-1地,地址译码器为二进制译码器,即全译码结构.(地址线为n根,译码器输出为2n根字线,说明存储阵列中有2n个存储单元),2) 存储阵列输出有m根位线,说明每个存储单元有m位,即 一个字有m位二进制信息组成.每一位称为一个基本存 储单元.,3) 存储器的容量定义为: 字数位数(2nm).,18,地址译码器为二进制译码器,即全译码结构.(地址线为n根,译码,(2)一个二极管ROM的例子,A1 A0 F0 F1 F2 F30 0 0 1 0
9、00 1 1 0 0 1 0 0 1 1 01 1 0 0 1 0,19,(2)一个二极管ROM的例子A1 A0 F0 F1,位线,字线,20,1A11A0&W0W1W2W3F0F1F2F3位线字线, W0W3为地址译码器的输出 Wi=mi (mi为地址码组成 的最小项), 当A1A0=00时,W0=1, F0F1F2F3=0100(一个字); 当A1A0=01时,W1=1, F0F1F2F3=1001(一个字); 当A1A0=10时,W2=1, F0F1F2F3=0110(一个字); 当A1A0=11时,W3=1, F0F1F2F3=0010(一个字)。,21, W0W3为地址译码器的输出
10、Wi=mi (mi为地址, 将地址输入和Fi之间的关系填入真值表得:,地址 数据A1 A0 F0 F1 F2 F30 0 0 1 0 00 1 1 0 0 1 0 0 1 1 01 1 0 0 1 0,F0=A1A0,F1=A1A0+ A1A0,F2=A1A0+ A1A0,F3=A1A0,ROM实际是一种组合电路结构。,22, 将地址输入和Fi之间的关系填入真值表得: 地址, 阵列图,与阵列:表示译码器。,或阵列:表示存储阵列。,存储容量为: 44,地址 数据A1 A0 F0 F1 F2 F30 0 0 1 0 00 1 1 0 0 1 0 0 1 1 01 1 0 0 1 0,23, 阵列图
11、与阵列:或阵列:存储容量为: 地址,2.可编程ROM,用户可根据需要自行进行编程的存储器.,一次性可编程 ROM(Programmable Read Only Memory,PROM)光可擦除可编程ROM (Erasable Programmable Read Only Memory, EPROM) 电可擦除可编程 ROM (Electrical Erasable Programmable Read Only Memory,E2PROM)快闪存储器(Flash Memory),24,2.可编程ROM用户可根据需要自行进行编程的存储器.一次性可,编程为一次性的,烧断的熔丝不能再接上.,当在该位上
12、需要存0时,通过编程,烧断熔丝;当需存1时,保留熔丝.,(1)一次性可编程 ROM(PROM),PROM的结构图,25,位线字线编程为一次性的,烧断的熔丝当在该位上需要存0时,通过,(2)光可擦除可编程ROM (EPROM),EPROM 是一种可以多次擦除和改写内容的 ROM。它与PROM 的总体结构相似,只是采用了不同的存储单元。,1)浮栅注入 MOS 管(FAMOS 管),存储单元采用两只 MOS管缺点:集成度低、击穿电压高、速度较慢,26,(2)光可擦除可编程ROM (EPROM)EPROM 是一种,层叠栅存储单元,2)叠层栅注入 MOS 管(SIMOS 管),27,层叠栅存储单元 2)
13、叠层栅注入 MOS 管(SIMOS 管),叠层栅MOS管剖面示意图,控制栅与字线 相连,控制信息的读出和写入,浮栅埋在二氧化硅绝缘层,处于电“悬浮”状态,不与外部导通,注入电荷后可长期保存,28,叠层栅MOS管剖面示意图 控制栅浮栅28,1 信息:出厂时所有存储单元的浮栅均无电荷,可认为全部存储了1 信息。,0 信息:在 SIMOS 管的漏极和源极(地)之间加上较高的电压(约 25V) ,形成雪崩击穿现象,产生大量高能电子。同时在控制栅极上加高压正脉冲(50ms,25V) ,则在控制栅正脉冲电压的吸引下,部分高能电子将穿过二氧化硅层到达浮栅,被浮栅俘获,浮栅注入电荷,注入电荷的浮栅可认为写入
14、0。,信息写入,29,1 信息:0 信息:信息写入 29,栅极加+5V电压,该SIMOS管不导通,只能读出所存储的内容,不能写入信息。,正常工作,信息擦除,紫外线照射SIMOS管时,浮栅上的电子形成光电流而泄放,又恢复到编程前的状态,即将其存储内容擦除。,常用的EPROM集成芯片,Intel 2716(2K8位)、2732(4K8位)、2764(8K8位)、27128(16K8位)、27256(32K8位),实际中,EPROM芯片的编程和擦除操作是使用专门的编程器和擦除器完成的。,30,栅极加+5V电压,该SIMOS管不导通,只能读出所存储的内容,一个EPROM芯片:Intel 2716,CE
15、是片使能端;,OE是数据输出使能端;,VPP是编程写入电源输入端。,容量:2K8位,受光窗口,31,一个EPROM芯片:Intel 2716CE是片使能端;OE,32,工作方式读 出未选中待 机编 程禁止编程校验读出CEOEVP,(3)电可擦除可编程ROM (E2PROM),特点: 编程和擦除均由电完成; 既可整片擦除,也可使某些存储单元单独擦除; 重复编程次数大大高于EPROM.,33,(3)电可擦除可编程ROM (E2PROM),E2PROM存储单元,T2是门控管T1是浮栅隧道氧化层MOS管(简称Flotox管),34,E2PROM存储单元 T2是门控管34,Flotox管剖面示意图,35
16、,Flotox管剖面示意图 35,1 状态:令Wi=1、Yj=0,则T2导通,T1漏极D1接近0电平,然后在擦写栅G1加上21V正脉冲,就可以在浮栅与漏极区之间的极薄绝缘层内出现隧道,通过隧道效应,使电子注入浮栅。,0 状态:擦写栅接0电平、Wi=1、Yj加上21V正脉冲,使T1漏极获得大约+20V的高电压,则浮栅上的电子通过隧道返回衬底,则浮栅上就没有注入电子,定义为0状态。,信息写入,根据浮栅上是否注入电子来定义0和1状态浮栅注入电子是利用隧道效应进行的。,36,1 状态:0 状态:信息写入根据浮栅上是否注入电子来定义0和,信息读出,读出1:擦写栅加+3V电压,字线加+5V正常电平,这时T
17、2管导通,若浮栅上有注入电子,则T1不能导通,在位线上可读出1.,读出0:若浮栅上没有注入电子,则T1导通,在位线上可读出0。,37,信息读出 读出1:读出0:37,擦写栅和待擦除单元的字线上加21V的正脉冲,漏极接低电平,即可使存储单元回到写入0前的状态,完成擦除操作。,早期E2PROM芯片都需用高电压脉冲进行编程和擦写,由专用编程器来完成。但目前绝大多数E2PROM集成芯片都在内部设置了升压电路,使擦、写、读都可在+5V电源下进行,不需要编程器。,信息擦除,38,擦写栅和待擦除单元的字线上加21V的正脉冲,漏极接低电平,即,(4)快闪只读存储器(Flash Memory),快闪只读存储器是
18、在吸收E2PROM擦写方便和EPROM结构简单、编程可靠的基础上研制出来的一种新型器件。SST39VF6401A 容量:64Mbits读取时间:70ns 写入时间:7us (写入前必须擦除)擦除时间:Chip-Erase time:40ms Sector-Erase time:18ms (2k words) Block-Erase time: 18ms (32k words)擦除次数:100000次 保存时间:100年,39,(4)快闪只读存储器(Flash Memory)快闪只读存储,快闪存储器存储单元,40,快闪存储器存储单元 40,叠栅MOS管剖面示意图,41,叠栅MOS管剖面示意图 4
19、1,1 状态:浮栅未注入电子,相当于存储1。,0 状态:利用雪崩注入的方法使浮栅充电,相当于存储0;,信息写入,与EPROM相同,42,1 状态:0 状态:信息写入与EPROM相同42,读出1:反之,若浮栅上有注入电子,叠栅MOS管截止,位线输出高电平。,读出0:令Wi=1,Vss=0,若浮栅上没有注入电子,则叠栅MOS管导通,位线输出低电平;注入电子,则T1导通,在位线上可读出0。,信息读出,43,读出1:读出0:信息读出43,信息擦除,快闪只读存储器的擦除方法与E2PROM类似,是利用隧道效应来完成的。在擦除状态下,控制栅G处于0电平,源极加入高压脉冲(12V),在浮栅与源区间很小的重叠区
20、域产生隧道效应,使浮栅上的电荷经隧道释放。,44,信息擦除快闪只读存储器的擦除方法与E2PROM类似,是利用隧,3.PROM的应用,1) 实现组合逻辑函数,用PROM实现组合逻辑函数,实际上是利用PROM中的最小项,通过或阵列编程,达到设计目的.,45,3.PROM的应用1) 实现组合逻辑函数用PROM实现组合逻,F1(A,B,C)=m(1,5,6,7),F2(A,B,C)=m(0,1,3,6,7),F3(A,B,C)=m(3,4,5,6,7),例:用PROM实现逻辑函数:,46,F1(A,B,C)=m(1,5,6,7)F2(A,B,C),47,1A&111F1F2F31B1C&m0m1,2)
21、 存放数据表和函数表:例如三角函数、对数、乘 法等表格。,3)存放调试好的程序。,* 2)、3)是PROM的主要用途。,48,2) 存放数据表和函数表:例如三角函数、对数、乘3)存放调试,7.2.3 随机存取存储器(RAM),RAM可以随时从任一指定地址读出数据,也可以随时把数据写入任何指定的存储单元 .,RAM在计算机中主要用来存放程序及程序执行过程中产生的中间数据、运算结果等.,RAM按工艺分类: 1)双极型;2)场效应管型。,场效应管型分为: 1)静态;2)动态。,49,7.2.3 随机存取存储器(RAM)RAM可以随时从任一指,1. RAM的结构,50,1. RAM的结构.A0A1An
22、-1地址译码器存 储W,当片选信号CS无效时,I/O对外呈高阻;当片选信号CS有效时,由R/W信号决定读或写,根据地址信号,通过I/O输出或输入.(I/O为双向三态结构),51,ENEN11I/ODR/W当片选信号CS无效时,I/O对外呈,2. RAM的存储单元,(1)SRAM基本存储单元 (以六管NMOS静态存储单元为例),52,2. RAM的存储单元(1)SRAM基本存储单元52,53,XiYjI/OI/OVCCQQT6T4T3T1T2T5T7T,(2)DRAM基本存储单元,DRAM的基本存储电路由动态MOS基本存储单元组成。DMOS基本存储单元通常利用MOS管栅极电容或其它寄生电容的电荷
23、存储效应来存储信息。,54,(2)DRAM基本存储单元DRAM的基本存储电路由动态MOS,电路结构(以单管动态存储单元为例),写信息:字选线为1,T导通,数据D经T送入CS .,读信息:字选线为1,T导通,CS上的数据经T送入位线的等效电容CD .,55,电路结构(以单管动态存储单元为例)位线字选线TCSCD输出写,特点: 1)当不读信息时,电荷在电容CS上的保 存时间约为数毫秒到数百毫秒;,2)当读出信息时,由于要对CD充电,使 CS上的电荷减少。为破坏性读出。,3)通常在CS上呈现的代表1和0信号的电平 值相差不大,故信号较弱。,56,特点: 1)当不读信息时,电荷在电容CS上的保 2),
24、结论:1)需加刷新电路;,2)输出端需加高鉴别能力的输出放大器。,3)容量较大的RAM集成电路一 般采用单管电 路。,4)容量较小的RAM集成电路一 般采用三 管或四 管电路。多管电路结构复杂,但外围电路简 单。,57,结论:1)需加刷新电路;2)输出端需加高鉴别能力的输出放大器,3. RAM容量的扩展,(1)RAM的位扩展,将2114扩展为1K8位的RAM,58,3. RAM容量的扩展VCCA8R/WCSGND191018,(2)RAM的字扩展,将2114扩展为2K4位的RAM,59,(2)RAM的字扩展I/O1I/O2I/O3I/O4A9A0,1.什么是传统机械按键设计?,传统的机械按键设
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