PCB工艺流程设计规范课件.ppt
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1、PCB生产工艺流程,PCB生产工艺流程,主要内容,1、PCB的角色2、PCB的演变3、PCB的分类4、PCB流程介绍,五彩缤纷的PCB工艺,主要内容1、PCB的,1、PCB的角色,PCB的角色: PCB是为完成第一层次的元件和其它电子电路零件接合提供的一个组装基地,组装成一个具特定功能的模块或产品。 所以PCB在整个电子产品中,扮演了连接所有功能的角色,也因此电子产品的功能出现故障时,最先被怀疑往往就是PCB,又因为PCB的加工工艺相对复杂,所以PCB的生产控制尤为严格和重要。,PCB的解释: Printed circuit board; 简写:PCB 中文为:印制板(1)在绝缘基材上,按预定
2、设计,制成印制线路、印制元件或由两者结合而成的导电图形,称为印制电路。 (2)在绝缘基材上,提供元、器件之间电气连接的导电图形,称为印制线路。(3)印制电路或者印制线路的成品板称为印制电路板或者印制线路板,亦称印制板。,1、PCB的角色 PCB的角色: 晶圓第0層次第1,1.早於1903年Mr. Albert Hanson(阿尔伯特.汉森)首创利用“线路”(Circuit)观念应用于电话交换系统上。它是用金属箔切割成线路导体,将之粘于石蜡纸上,上面同样粘上一层石蜡纸,成了现今PCB的构造雏形。如下图: 2. 到1936年,Dr Paul Eisner(保罗.艾斯纳)真正发明了PCB的制作技术,
3、也发表多项专利。而今天的加工工艺“图形转移技术(photoimage transfer) ,就是沿袭其发明而来的。,图,2、PCB的演变,图2、PCB的演变,PCB在材料、层数、制程上的多样化以适合不同的电子产品及其特殊需求。因此其种类划分比较多,以下就归纳一些通用的区别办法,来简单介绍PCB的 分类以及它的制造工艺。 A. 以材料分 a. 有机材料 酚醛树脂、玻璃纤维/环氧树脂、Polyimide、BT等皆属之。 b. 无机材料 铝基板、铜基板、陶瓷基板等皆属之,主要取其散熱功能。 B. 以成品软硬区分 a. 硬板 Rigid PCB b. 软板 Flexible PCB 见图1.3 c.
4、软硬结合板 Rigid-Flex PCB 见图1.4 C. 以结构分 a. 单面板 见图1.5 b. 双面板 见图1.6 c. 多层板 见图1.7 ,3、PCB的分类,3、PCB的分类,圖1.3,圖1.4,圖1.5,圖1.6,圖1.7,圖1.8,圖1.3圖1.4圖1.5圖1.6圖1.7圖1.8,4、PCB流程介绍,我们以多层板的工艺流程作为PCB工艺介绍的引线,选择其中的图形电镀工艺进行流程说明,具体分为八部分进行介绍,分类及流程如下:,A、内层线路,C、孔金属化,D、外层干膜,E、外层线路,F、丝印,H、后工序,B、层压钻孔,G、表面工艺,4、PCB流程介绍 我们以多层板的工艺流程作为PCB
5、工,A、内层线路流程介绍,流程介绍:目的:1、利用图形转移原理制作内层线路2、DES为显影;蚀刻;去膜连线简称,前处理,压膜,曝光,DES,开料,冲孔,A、内层线路流程介绍流程介绍:冲孔,内层线路-开料介绍,开料(BOARD CUT):目的:依制前设计所规划要求,将基板材料裁切成工作所需尺寸主要生产物料:覆铜板覆铜板是由铜箔和绝缘层压合而成,依要求有不同板厚规格,依铜厚可分为H/H;1oz/1oz;2oz/2oz等种类注意事项:避免板边毛刺影响品质,裁切后进行磨边,圆角处理。考虑涨缩影响,裁切板送下制程前进行烘烤。裁切须注意经纬方向与工程指示一致,以避免翘曲等问题。,内层线路-开料介绍开料(B
6、OARD CUT):,前处理(PRETREAT):目的:去除铜面上的污染物,增加铜面粗糙度,以利於后续的压膜制程主要消耗物料:磨刷,铜箔,绝缘层,前处理后铜面状况示意图,内层线路-前处理介绍,前处理(PRETREAT):铜箔绝缘层前处理后铜面状况示意图,压膜(LAMINATION):目的:将经处理之基板铜面透过热压方式贴上抗蚀干膜主要生产物料:干膜(Dry Film)工艺原理:,干膜,压膜前,压膜后,内层线路压膜介绍,压膜,压膜(LAMINATION):干膜压膜前压膜后内层线路压膜,曝光(EXPOSURE):目的:经光线照射作用将原始底片上的图像转移到感光底板上 主要生产工具: 底片/菲林(f
7、ilm)工艺原理: 白色透光部分发生光聚合反应, 黑色部分则因不透光,不发生反应,显影时发生反应的部分不能被溶解掉而保留在板面上。,UV光,曝光前,曝光后,内层线路曝光介绍,曝光(EXPOSURE):UV光曝光前曝光后内层线路曝光介,显影(DEVELOPING):目的:用碱液作用将未发生化学反应之干膜部分冲掉主要生产物料:K2CO3工艺原理: 使用将未发生聚合反应之干膜冲掉,而发生聚合反应之干膜则保留在板面上作为蚀刻时之抗蚀保护层。说明: 水溶性干膜主要是由于其组成中含有机酸根,会与弱碱反应使成为有机酸的盐类,可被水溶解掉,显露出图形,显影后,显影前,内层线路显影介绍,显影(DEVELOPIN
8、G):显影后显影前内层线路显影介绍,蚀刻(ETCHING):目的:利用药液将显影后露出的铜蚀掉,形成内层线路图形主要生产物料:蚀刻药液(CuCl2),蚀刻后,蚀刻前,内层线路蚀刻介绍,蚀刻(ETCHING):蚀刻后蚀刻前内层线路蚀刻介绍,去膜(STRIP):目的:利用强碱将保护铜面之抗蚀层剥掉,露出线路图形主要生产物料:NaOH,去膜后,去膜前,内层线路退膜介绍,去膜(STRIP):去膜后去膜前内层线路退膜介绍,冲孔:目的:利用CCD对位冲出检验作业之定位孔及铆钉孔主要生产物料:钻刀,内层线路冲孔介绍,冲孔:内层线路冲孔介绍,AOI检验:全称为Automatic Optical Inspect
9、ion,自动光学检测 目的:通过光学反射原理将图像回馈至设备处理,与设定的逻辑判断原则或资料图形相比较,找出缺点位置注意事項:由于AOI所用的测试方式为逻辑比较,一定会存在一些误判的缺点,故需通过人工加以确认。,内层检查工艺,AOI检验:内层检查工艺LONG WIDTHNICKSPRO,B、层压钻孔流程介绍,流程介绍:目的:层压:将铜箔(Copper)、半固化片(Prepreg)与棕化处理后的内层线路板压合成多层板。钻孔:在板面上钻出层与层之间线路连接的导通孔。,棕化,铆合,叠板,压合,后处理,钻孔,B、层压钻孔流程介绍流程介绍:,棕化:目的: (1)粗化铜面,增加与树脂接触表面积(2)增加铜
10、面对流动树脂之湿润性(3)使铜面钝化,避免发生不良反应 主要生产物料:棕化液MS100注意事项:棕化膜很薄,极易发生擦花问题,操作时需注意操作手势,层压工艺棕化介绍,棕化:层压工艺棕化介绍,铆合目的:(四层板不需铆钉)利用铆钉将多张内层板钉在一起,以避免后续加工时产生层间滑移主要生产物料:铆钉;半固化片(P/P)P/P(PREPREG):由树脂和玻璃纤维布组成,据玻璃布种类可分为106、1080、3313、2116、7628等几种树脂据交联状况可分为: A阶(完全未固化);B阶(半固化);C阶(完全固化)三类,生产中使用的全为B阶状态的P/P,2L,3L,4L,5L,铆钉,层压工艺铆合介绍,铆
11、合2L3L 4L 5L铆钉层压工艺铆合介绍,叠板:目的:将预叠合好之板叠成待压多层板形式主要生产物料:铜箔、半固化片电镀铜皮;按厚度可分为1/3OZ12um(代号T)1/2OZ18um(代号H)1OZ35um(代号1)2OZ70um(代号2),层压工艺叠板介绍,2L,3L,4L,5L,叠板:Layer 1Layer 2Layer 3Layer,压合:目的:通过热压方式将叠合板压成多层板主要生产辅料: 牛皮纸、钢板,钢板,压力,牛皮纸,承载盘,热板,可叠很多层,层压工艺压合介绍,压合:钢板压力牛皮纸承载盘热板可叠很多层层压工艺压合介绍,后处理:目的:对层压后的板经过磨边;打靶;铣边等工序进行初步
12、的外形处理以便后工序生产品质控制要求及提供后工序加工之工具孔。主要生产物料:钻头;铣刀,层压工艺后处理介绍,后处理:层压工艺后处理介绍,钻孔:目的:在板面上钻出层与层之间线路连接的导通孔主要原物料:钻头;盖板;垫板钻头:碳化钨,钴及有机粘着剂组合而成盖板:主要为铝片,在制程中起钻头定位;散热;减少毛头;防压力脚压伤作用垫板:主要为复合板,在制程中起保护钻机台面;防出口性毛头;降低钻针温度及清洁钻针沟槽胶渣作用,钻孔工艺钻孔介绍,钻孔:钻孔工艺钻孔介绍铝盖板垫板钻头墊木板鋁板,流程介绍,去毛刺(Deburr),去胶渣(Desmear),化学铜(PTH),一次铜Panel plating,目的:
13、使孔璧上的非导体部分之树脂及玻璃纤维进行金属化 方便进行后面的电镀制程,提供足够导电及保护的金属孔璧。,C、孔金属化工艺流程介绍,流程介绍去毛刺去胶渣化学铜一次铜 目的:C、孔金属化工艺,去毛刺(Deburr): 毛刺形成原因:钻孔后孔边缘未切断的铜丝及未切断的玻璃布 去毛刺的目的:去除孔边缘的毛刺,防止镀孔不良 重要的原物料:磨刷,沉铜工艺去毛刺除胶渣介绍,去胶渣(Desmear): 胶渣形成原因: 钻孔时造成的高温的过玻璃化转变温度 (Tg值),而形成融熔态,产生胶渣 去胶渣的目的:裸露出各层需互连的铜环,另膨松剂可 改善孔壁结构,增强电镀铜附著力。 重要的原物料:KMnO4(除胶剂),去
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