PCB工艺流程简介解析课件.ppt
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1、课 程 名 称: PCB工艺流程简介制作单位: 工艺部核准日期: 2012/9版 本: A,1,课 程 名 称: PCB工艺流程简介1,双面板工艺全流程图,沉金,外层蚀刻,阻焊,外型,喷锡,丝印字符,电测,最终检查(FQC),OSP,最终抽检(FQA),包装,入库,开料,沉铜(PTH),钻孔,全板电镀,电镀铜锡,外层线路,双面板工艺全流程图沉金外层蚀刻阻焊外型喷锡丝印字符电测最终检,流程介紹,开料,目的:依制前设计所规划要求,将基板材料裁切成工作所需尺寸。主要原物料:基板、锯片基板由铜皮和绝缘层压合而成,依要求有不同板厚规格,依铜厚可分为H/Hoz、1/1oz、2/2oz等种类。注意事项:避免
2、板边毛刺影响品质,裁切后进行磨边、圆角处理。考虑涨缩影响,裁切板送下制程前进行烘烤。裁切须注意机械方向一致的原则。,流程介紹裁切刨边烤板开料目的:,流程介绍:目的:在板面上钻出层与层之间线路连接的导通孔,钻孔,流程介绍:钻孔,上PIN:目的:对于非单片钻之板,预先按STACK之要求钉在一起,便于钻孔,依板厚和工艺要求每个STACK可两片钻,三片钻或多片钻。主要原物料:PIN针主要设备:上PIN机注意事项:上PIN时需开防呆检查,避免因前制程混料造成钻孔报废。,钻孔,上PIN:钻孔,钻孔:目的:在板面上钻出层与层之间线路连接的导通孔主要设备:SCHMOLL钻机/HITACHI钻机主要原物料:钻头
3、、盖板、垫板钻头:碳化钨、钴及有机黏着剂组合而成。盖板:主要为铝片,在制程中起钻头定位、散热、减少毛头、防压力脚压伤作用。垫板:主要为复合板,在制程中起保护钻机台面;防出口性毛头;降低钻针温度及清洁钻针沟槽胶渣作用。,钻孔,钻孔:钻孔,钻孔示意图:,钻孔,钻孔示意图:铝盖板垫板钻头钻孔,下PIN:目的:将钻好孔之板上的PIN针下掉,将板子分出。,钻孔,下PIN:钻孔,除胶渣/化学沉铜/全板电镀,流程介紹,目的: 使孔璧上的非导体部分之树脂及玻璃纤维进行金属化。 方便进行后面之电镀铜制程,完成足够导电及焊接之金属孔璧。,除胶渣/化学沉铜/全板电镀 流程介紹去毛刺除胶渣化学沉铜全板,去毛刺(Deb
4、urr): 毛刺形成原因: 钻孔后孔边缘的未切断的铜丝及未切断的玻璃布 Deburr之目的: 去除孔边缘的披锋,防止镀孔不良。 重要的原物料:刷轮,除胶渣/化学沉铜/全板电镀,去毛刺(Deburr):除胶渣/化学沉铜/全板电镀,除胶渣(Desmear): smear形成原因:鑽孔時造成的高溫超過玻璃化轉移溫度 (Tg值),而形成融熔狀,產生膠渣。 Desmear之目的:裸露出各層需互連的銅環,另膨松劑 可改善孔壁結構,增強電鍍銅附著力。 重要的原物料:KMnO4(除膠劑),除胶渣/化学沉铜/全板电镀,除胶渣(Desmear):除胶渣/化学沉铜/全板电镀,化學沉銅(PTH) 化學銅之目的:通過化
5、學沉積的方式時表面沉積上厚度為0.2-0.5um的化學銅层。 重要原物料:活化鈀、 化銅液,PTH,除胶渣/化学沉铜/全板电镀,化學沉銅(PTH)PTH除胶渣/化学沉铜/全板电镀,全板电镀 全板电镀之目的:鍍上5-10um厚度的銅层以保護僅有0.2-0.5um厚度的化學銅不被後制程破壞造成孔破。 重要原物料:銅球、 电镀药水 FA监控,一次銅,除胶渣/化学沉铜/全板电镀,全板电镀一次銅除胶渣/化学沉铜/全板电镀,流程介绍:,前处理,压膜,曝光,显影,目的:利用光化学原理,将线路图形通过以感光材料转形式移到 印制板上,形成一种抗蚀或抗电镀的掩膜图像。,外层线路,流程介绍:前处理压膜曝光显影 目的
6、:外层线路,前处理(Pre-treatment):制程目的:去除铜面上的污染物,增加铜面粗糙度,提高抗蚀或抗电镀掩膜与板面的附着力。主要设备:针刷磨板机主要物料:刷轮,外层线路,前处理(Pre-treatment):外层线路,压膜(Lamination): 制程目的: 通过热压法使干膜紧密附着在铜面上。 主要设备: 贴膜机 主要物料:干膜(Dry film) 此干膜主要是由于其组成中含有有机 酸根,会与碱反应使成为有机酸的盐 类,可被水溶掉,主要使用型号有: YQ-40PN:主要用于图形电镀板铜厚 2OZ和酸性直蚀板; AQ-5038:主要用于掩孔直蚀板、底 铜为24OZ的碱性直蚀板; AQ-
7、3058:主要用于电厚镍金板。,外层线路,压膜(Lamination):外层线路,曝光(Exposure): 制程目的: 通过底片进行图形转移,在干膜上曝出客戶所需的线路图形。 主要设备:曝光机 主要物料:底片 外层所用底片与内层相反,为负片,底片黑色为线路,白色为底板(白底黑线) 白色的部分紫外光透射过去,干膜发生聚合反应,不能被显影液洗掉,外层线路,曝光(Exposure):乾膜底片UV光外层线路,显影(Developing): 制程目的: 把尚未发生聚合反应的区域用显像液将之沖洗掉,已感光部分則因已发生聚合反应而洗不掉而留在铜面上成为蚀刻或电鍍之阻劑膜。 主要设备: 显影机 主要物料:
8、弱碱(Na2CO3),外层线路,显影(Developing):一次銅乾膜外层线路,流程介绍:,目的: 将铜层厚度镀至客户所需求的厚度,图形电镀,流程介绍: 目的:图形电镀前处理镀锡图形电铜,二次镀铜: 目的:將显影后的裸露铜面的厚度加厚,以达到客戶所要求的銅厚。 重要原物料:铜球、 电镀药水 铜厚FA监控,乾膜,二次銅,图形电镀,二次镀铜:乾膜二次銅图形电镀,镀锡: 目的:在鍍完二次銅的表面镀上一层锡保护,做为蚀刻时的保护剂。 重要原物料:锡条、 电镀药水,干膜,二次铜,保护锡层,图形电镀,镀锡:干膜二次铜保护锡层图形电镀,流程介紹:,目的: 完成客户所需求的线路外形,外层蚀刻,流程介紹: 目
9、的:外层蚀刻退膜退锡蚀刻,退膜: 目的:将抗电镀用途之干膜 以药水剥除 重要原物料:退膜液(NaOH),蝕刻: 目的:将非导体部分的铜蚀掉 重要原物料:蚀刻液(氨水) 蚀刻因子2.5,二次銅,保護錫層,二次銅,保护锡层,底板,外层蚀刻,退膜:蝕刻:二次銅保護錫層二次銅保护锡层底板外层蚀刻,退锡: 目的:将导体部分的起保退 护作用之锡剥除 重要原物料:退锡液,二次銅,底板,外层蚀刻,退锡:二次銅底板外层蚀刻,目的: 通过在板面涂覆一层阻焊层从而起到以下作用:防焊:防止波焊时造成的短路,并节省焊锡之用量。护板:防止线路被湿气、各种电解质及外来的机械力所伤害。绝缘:由于板子愈来愈小,线路间距愈来愈窄
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