PCB制作流程及基本工艺技术解析课件.ppt
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1、双面和多层印制板,PCB制造过程及其基本工艺技术 (培训教材),1,双面和多层印制板PCB制造过程及其基本工艺技术1,0. 目录,1. 概述2. 制造方法3. 工艺流程说明 3.3 双面板流程 3.4 多层板流程4. PCB 工艺小结,PCB接收5. PCB 与 CCL,2,0. 目录1. 概述2,1.0 概述,1.1定义:印制板(Printed Board) 日本:“形成印制线路的板”叫做“印制线路板”。 装上元器件的印制线路板称作“印制电路板”。 中国:GB/T203680。附着于基材表面的,提供元器件电气连接 导电图形的板子,叫印制线路板。 GB/T203690,印制电路或印制线路成品板
2、的通称叫印制板。 英文:Printed Board (印制板) Printed Wing BoardPWB。(光、裸板)(UL使用PWB) (不含元件)Printed Circuit BoardPCB。(板子+元器件=PCB),3,1.0 概述1.1定义:印制板(Printed Board),1.0概述,1.2分类(1)结构:刚性。Rigid PCB。(约占90%)挠性。Fiex PCB。(约占10%)刚挠结合PCB。(少量)金属基、陶瓷基PCB(刚性)。(3)用途:民用;军用;工业用。(BT双马来酰亚胺三嗪,PPO(PPE),(2)基材:单面:FR1,FR2,XPC(纸+酚醛),CEMI。双
3、面:G10(不阻燃),FR4,FR5,CEM3,PTFE,PPO。多层:FR4,FR5,Pi,BT,PTFE。 (纸基,玻纤,积层+不同树脂)(4)特殊特性:高Tg。PCB。CTI。(漏电起痕指数)。无卤无铅PCB。高频微波(Dk)PCB。聚醚,P1聚酰亚胺,PTFETeflon,聚四氟乙烯),4,1.0概述1.2分类(2)基材:4,1.0概述,1.3小史 发明:Mr. Pau Eisler,奥地利人,20世纪40年代,二次世界大战期间,光蚀刻工艺法在一个军事电子装置中取得了应用。“印制电路之父”。 中国:1957.4.25人民日报第7版,中国第一块单面板诞生,用 在晶体管收音机上。 发明人:
4、王铁中(成都二机部10所;现电子10所),中国PCB奠基人。1964年,中国开始作多层板。 PCB历史约60年。 结论:60年历史说明,没有PCB,没有电子电路,飞行、交通、原子 能、计算机、宇航、通讯、电话这一切都将无法实现。 (1999年世界电子电路大会),5,1.0概述1.3小史5,1.0概述,1.4特点 集成电路离不开印制板。(IC体现一个国家工业现代化水平,引导电子信息产业发展。而IC的电气互连和装配离不开印制板)。 高新技术产品少不了印制板。(军事,民用,工业产品,高科技产品,数码相机,手机,汽车卫 星导航仪,可视电话,平面电脑,摄像机,B超,心电图测试) 现代科学和管理体现在印制
5、板。 (多学科,多工艺,多种设备,多工序,多物料,多辅助设备。) (ISO9000,14000,QS9000,ISO16949,SA8000, OHAS18000)(高资金密集,高污染),6,1.0概述1.4特点6,1.0概述,我国改革开放高速发展了印制板。(2003年全国PCB产值60亿美元,约500亿RMB,在全球排位第二,仅次于日本,超过了美国。世界PCB制造中心。上规模,上规模 ,上档次,上水平,争国际)。故:PCB充满希望的产业; 21世纪朝阳工业; 高资金,高科技,高污染,高啰嗦,下订单才 能生产的行业。 长生不老。 日本印制线路板集作者小林正说: 如没有电脑和软件,电子设备=普通
6、箱子。如没有半导体、线路板和电子元件=普通石头。,7,1.0概述 我国改革开放高速发展了印制板。7,1.0概述,1.5趋势 厚板薄板多层板,微孔细线高Tg,板面尺寸24,企业运行系统化来管理。IC同PCB相互靠拢,相互渗透,紧密配合。 THTTrough Hole Technology,通孔插装技术。 SMTSurface Mount Technology,表面安装技术。 TABTape Automated Bonding,带状自动焊(粘)接。 COFChip on flex,芯片直接安装在挠性板上。 CSPChip Scale package,芯片级封装。 CMTChip Mount Tec
7、hnology,芯片安装技术。 MCMMulti-chip Module,多芯片模块(多个芯片焊接在板子上)。PCB线更密(0.05-0.075mm),孔更小(00.05-0.10mm),板更薄,互连 密度更高。,8,1.0概述1.5趋势8,1.0概述,HDI(High Density Interconnecting)高密度互连,无卤铅,绿色焊料。阻抗特性,埋盲孔,Teflon(高频微波),埋入式电阻电容,导通孔塞孔,刚挠结合,厚铜箔,金属基材(Al、Cu、Fe),积层 HDI 定义:(1)非机械钻孔:孔径0.15mm以下,多为盲孔;孔环径0.25mm。 微孔或微导通孔。(2)接点(Conne
8、cting),密度130点/英寸2,布线密度117 英寸/英寸2 。(3)线宽/间距3mil(0.075mm)。(4)HDI同Buildup Multilayer (积层多层板)。,9,1.0概述 HDI(High Density Interco,2.0制造方法,2.1 分类。减去法以覆铜板为基础,选择性地除去不需要的导电铜箔 而形成导电图形的工艺。 (中国各PCB企业都使用此法)加成法在未覆铜箔的基材上,完全用化学方法沉积导电材 料而形成所要求厚度的导电 图形的工艺。 (此法中国行不通,日本等国小部分企业用此法生产),10,2.0制造方法2.1 分类。10,2.0制造方法,2.2 图形电镀蚀
9、刻法(Pattern Plating Etch Process) 对导电图形进行选择性电镀。(图1) 流程:(以双面板为例)下料钻孔PTH板面镀铜光成象图形电镀蚀刻阻焊+字符HALE-TESTFQA出货 要点: 线路和孔内,图形电镀到铜厚平均20微米,+Sn(抗蚀层),退除干膜,以Sn为抗蚀剂作蚀刻(碱蚀),得到线路图形。退掉表面和孔内Sn,印阻焊+字符,热风整平,机加工,电性能测试,得到所需要的PCB。 特点: 工序多,复杂,但相对可靠,可作细线路。 欧、美、中企业大多数用此工艺生产。,11,2.0制造方法2.2 图形电镀蚀刻法(Pattern Pla,2.0制造方法,2.3 板面电镀蚀刻法
10、(Panel Plating Etch Process) 对整个板面和孔进行电镀。(图2) 要点: 1)板材钻孔和PTH后,全板面和孔镀够所需要的铜厚,平均20微米。 2)仅在孔和图形上盖上干膜,以干膜作抗蚀层。 3)在酸性蚀刻液中蚀去多余的铜,得到所需要的图形。 特点: 1)工序简单,但难控制。日本不少企业用此工艺。 2)难点:电镀均匀性,板四周铜厚,中间簿,蚀刻难以均匀,细线难控制。 3)干膜盖孔,尤其大孔,如盖不住,蚀刻药水进入孔内,此板即报废。 流程:,12,2.0制造方法2.3 板面电镀蚀刻法(Panel Plati,2.0制造方法,下料钻孔PTH板面镀铜光成象酸蚀阻焊+字符HAL外
11、形E-testFQA出货2.4 SMOBC法 Solder Mask Over Bare Circuit,实质上就是图形电镀蚀刻法。 在裸铜线路上盖上阻焊剂,作热风整平(Hot Air leveling),广东人叫喷锡。就是说,在线路上不要有焊料(Pb-Sn),仅孔和焊盘上铅锡。 Pb-Sn焊料:Pb:Sn=37:63,或40:60,熔点183,190 。 线路上的Pb-Sn焊料一点好处也没有,浪费,焊接时线路上阻焊发趋,易产生桥连。,13,2.0制造方法下料钻孔PTH板面镀铜光成象酸蚀阻,2.0制造方法,2.5 水金板,沉金板,沉银板,沉锡板,OSP(PreFlux)(1)水金板(Flish
12、 gold) 热风整平(喷锡)工艺,焊盘上的Pb-Sn不够平整,SMT贴装造成困难。而Au可焊性优良,在线路图形、孔、焊盘上全部镀上镍金,蚀刻后,上阻焊剂,仅留下孔和焊盘是Ni/Au,代替PBSn,这就是水金板。 Au层为纯Au,24K,仅作可焊,但很薄,0.05-0.10微米。需镀镍打底,25微米,再镀水金。镀金槽中金含量不多,约为1克/升Au,广东、香港人称为水金。这种板叫水金板。 注:PCB插头上镀的是硬金,耐磨,插拔多次,要求一定是硬度。金缸中含微量钴(或镍、锑)。插头金层厚度IPC二级标准为0.8微米,而目前很多插头镀金厚度0.1,0.2,0.5微米都有,甚至也有镀水金的,无厚度,仅
13、金色。,14,2.0制造方法2.5 水金板,沉金板,沉银板,沉锡板,OSP,2.0制造方法,(2)PreFlux,OSP 预涂助焊剂,或叫有机可焊防护剂。 代替PbSn,Ni/Au层。日本盛行。 PbSn有毒。2006.7.1欧盟禁Pb,中国,日本,美国也会同样禁Pb。 OSP是未来的表面涂敷的方向之一。 问题:无色。热冲击,焊接多次存在问题。(3)沉Ag板,沉Sn板。 环保要求,消灭Pb,代替pbSn焊料。 沉Ag还是Sn?不同客户不同要求。(4)沉NI/AU板 仅在孔和焊盘上沉上NI(35微米),AU(0.05-0.1微米)。 代替喷锡,焊盘平整,可焊。但价贵一些。 手机板多用沉NI/AU
14、。(5)2006.7以后,PbSn会逐渐消亡。 替代的是:OSP,沉Sn,Ag, Ni/Au。,15,2.0制造方法15,3.0工艺流程说明(图形电镀蚀刻法),3.1 来料检验板材,Prepreg。钻头、干膜、药水、油墨3.2 产前准备(工程设计)1)评审客户资料:Email图形、图纸、磁盘、技术能力、规范、交货期、价格。2)MI(制造说明),工卡。排版尺寸,每一工序流程,每一工序技术要求。3)生产底片(内层、外层、阻焊、字符、塞孔等底片)4)钻孔磁带。设备和技术5)钻测试板。* 电脑,工作台,软件;6)铣外形带。* 激光光绘机;7)电性能测试夹具。* 底片显影机;8)文件包检查(QA)。 *
15、 钻床/铣床;* 投影仪、放大镜。,16,3.0工艺流程说明(图形电镀蚀刻法)3.1 来料检验16,3.3双面板流程,(1)下料。(Cutting)设备:自动下料机,剪床,烘箱,倒角机,磨边机。烘板:FR4,140150,48小时,除应力、潮气(有的基板不烘板)。核对供应商(生益、宏仁、KB、Rogers ),尺寸,板厚,铜厚,型号,数量。按工卡上开料图下料。36*4818“*24”,4PCS。倒边,倒角。(除玻纤环氧碎,防划伤)。隔纸,放框,填写工卡。钻孔用盖板(铝片),垫板。,17,3.3双面板流程17,3.3双面板流程,(2)钻孔(Drilling)冲出定位孔,上销钉。2-4块/叠。在钻
16、床上安装垫板,待钻孔板,盖板。放不同直径的钻头(按工程磁带要求)。按钻孔磁带程序钻出不同直径的孔。根据不同孔径,钻机,控制钻孔参数(转速,进退刀速度,孔数/支钻头,钻孔深度)。钻孔直径,PTH孔=成品孔直径+0.15mm;NPTH孔=成品孔直径+0.05mm。查孔:红胶片。查直径、位置、毛刺、孔数、堵孔、漏孔、断钻头孔、没钻穿孔、工具孔(丝印孔、测试孔、微切片孔等)、偏孔,钻孔粗糙度。机械钻孔:最小约0.1-0.2mm。1-8头数控钻床(通常4-6头)。15-18万转/分。500-600次/分。激光钻孔:钻孔直径0.05-0.15mm。专门对付积层多层板(HDI),即手机板,数码相机板等。微小
17、导通孔,埋孔,盲孔。专门对付微小孔(0.05-0.10mm)和簿基材。,18,3.3双面板流程(2)钻孔(Drilling)18,3.3双面板流程,分类: CO2激光机。 NdYAG激光机(铵钇铝石榴石)。 全球约3000台,四五十万美元/台。几十到几百个微孔/秒。 Micro-via Hole微小导通孔,微孔。 Blind Via Hole 盲孔。仅延伸到印制板一个表面的导通孔。 Buried Via Hole_埋孔。未延伸到印制板表面的导通孔。 机械钻孔:高稳定性,高可靠,高速,高精度。目前仍然是PCB钻孔的主流,大一点直径的孔(0.3-6.5mm),厚一点基材的板的钻孔还得靠机械式的数控
18、钻床。,19,3.3双面板流程19,3.3双面板流程,(3)PTHPlated through hole。 PTH叫穿孔电镀,孔金属化,化学沉铜,镀覆孔。GB/T203694,4.13解释,孔壁镀覆金属的孔叫镀覆孔。 这是一种自身的催化氧化还原反应过程。 是PCB厂各工序中化学反应最复杂的一个工序。全线二三十个 缸,全自动控制。 目的:使孔内和板面沉积上一层簿铜,用以完成双面或多层层间 导线的联通。过程:1)去毛刺,磨板。2)化学沉铜线:清洁(除油)水洗微蚀(粗化)水洗预浸活化水洗加速化学沉铜水洗防氧化液转入全板电镀,20,3.3双面板流程(3)PTHPlated through,3.3双面板
19、流程,若是多层板PTH,沉铜线上要加约9个槽(缸):溶胀除胶渣水洗中和水洗双面板PTH流程目的:除去多层板孔内的环氧钻污(Desmear)。PTH检查:* 背光,8级。 * 厚度,簿铜0.3-1.0微米,厚铜2-5微米。 * 黑孔,空穴,塞孔。 * 3M胶带测试,沉铜层不掉。,21,3.3双面板流程若是多层板PTH,沉铜线上要加约9个槽(缸),3.3双面板流程,(4)全板镀铜(Panel Plating) 目的:PTH孔内铜很簿,在其后图形电镀加厚的前处理微蚀时会 被蚀穿形成孔内无铜或空穴,必须作全板镀铜加厚。 要求:孔内和板面上镀铜加厚至孔内铜5-8微米。 设备:全自动电镀线。 过程;除油水
20、洗浸酸板镀水洗吹干下架转入光成象 参数:Dk1.8-2.0A/dm2,15-20分钟。高分散疏酸铜镀液+光亮添加 剂。 要求:镀层光亮均匀平整,无烧焦,无粗糙,无条纹,无起泡。,22,3.3双面板流程(4)全板镀铜(Panel Plating),3.3双面板流程,(5)光成象。(Photo-imaging) Imaging, Photo-printing, Dryfilm-room, Photo-imaging。 目的:将光绘底片(工程部)上的电路图形转移到已沉铜的板子上,形成抗电镀的掩膜图象。 设备:磨板机,贴膜机,曝光机,显影机。氮片显影机。材料工具: * 干膜(Dry film),三层结
21、构:保护膜(聚乙烯), 感光胶层,聚醋薄膜,厚度1.0mil,1.5mil(38um)。*或湿膜(Wet film),液态感光胶。*无水碳酸钠,1%Na2co3,显影用。*17或25级光密度尺。(查曝光时间),23,3.3双面板流程(5)光成象。(Photo-imaging),双面板流程,工艺:双面板1)磨板:硫酸2-3%高压水洗水洗磨板(320目)磨板(500目)水洗吸干吹干出板 目的:除板面氧化层,污渍,形成微粗糙的表面,确保干膜牢固粘贴到板面上。2)贴膜:贴膜机1105,传速速度1.0-1.8米/分,压力30-60PSI。3)曝光:5-7KW曝光机,抽真空,紫外光波长310-440毫微米
22、。镝灯,高压 汞灯。曝光几秒钟即可完成。21级曝光尺6-9级。 拍片:用重氮红片。使底片上的焊盘与板子的孔重合对准,胶带固定后送到曝光机上曝光。4)显影:显影机中进行。10.2% Na2co3液。显影液302,压力1.5-3.0Kg/cm2,传送速度2.0-3.0米/分。破裂点50-60%。5)QC查:开路、缺口、短路、余胶、露铜点、对位、线宽、环宽。NPTH是否破。6)环境: * 黄光灯。 * 恒温恒湿防尘:21 1,55 5%,1万级。防静电服,风淋。,24,双面板流程 工艺:双面板24,3.3双面板流程,工艺:内层芯板(inner-layer) 1) 在内层覆铜板上形成正相图象,即线路、
23、焊盘盖干膜,内层底片是 负片。 2)没被干膜保护的不需要的铜箔,在随后的蚀 刻工序中去掉。 3)内层板通常没有孔,不需钻孔,PTH,图形电镀,形成的图象为 正相,同外层相反(外层为负相图象,底片是正片)。 4)蚀刻液通常为酸性。(也有用碱蚀)。 5)流程: 下料磨板或化学处理表面贴干膜曝光显影QC(查 正相图象) 蚀刻退膜黑化或棕化,25,3.3双面板流程 工艺:内层芯板(inner-layer,3.3双面板流程,(6)图形电镀(Pattern Plating)目的:(1)确保孔内铜厚度(IPC I级15um;级20um;级 25um。 (2)孔内铜层与导电图形良好连接。设备:全自动电镀生产线
24、。 镀Cu加镀Sn(抗蚀层,约5um)溶液:高分散性光亮硫酸铜液;硫酸亚锡镀液。(加添加剂)流程:除油水洗微蚀水洗浸酸镀铜水洗镀锡水洗 烘干下架转到蚀刻工序参数:Cu:Dk1.8-2.5A/dm2,约60分钟,磷阳级,摇摆,过滤,自动 添加光剂,温度22-32。 Sn:Dk 1.5-2.0A/dm2,约10分钟,纯锡板阳极,阳极移动, 不得鼓入空气搅拌,温度26。,26,3.3双面板流程(6)图形电镀(Pattern Platin,3.3双面板流程,质量要求: 1)厚度:* Cu平均20um,局部最小18um(IPC级); * Cu平均25um,局部最小20um(IPC级)。 * Sn4-10
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