观察与分析高解析NA值搭配高工作距离物镜专门针对LC.ppt
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观察与分析高解析NA值搭配高工作距离物镜专门针对LC.ppt
功能簡介:Nikon CFI 60 高解析光學鏡頭,對產品進行多種倍率(25X1000X)觀察與分析高解析N.A.值,搭配高工作距離物鏡,專門針對LCD,PCB,TAB,IC,金屬有專用機型台面尺寸/行程由小至大型尺寸50mm-300mm有不同應用之機型適用產業:電子、Wafer、LCD/LCM、封裝前工程、太陽能、LED、特殊纖細材料等,最新發表機型MA100倒立式金相顯微鏡,NIKON L200 8”Wafer inspection microscope&loader,NIKON 金相顯微鏡LV150,LV150A,LV100D 3”-6”行程,NIKON L300/D 12”wafer&lcd inspection microscope,各款接物鏡介紹如上列,200萬/500萬畫素攝影系統DS-2MV/Fi1/L2/U2,