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    微电子制造概论考试复习提纲.ppt

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    微电子制造概论考试复习提纲.ppt

    微电子制造概论,复习提纲,题目类型,1:名词解释(英文缩写翻译,解释)(每题4分,5题,共20分)2:填空(每空2分,10空,共20分)3:简答(每题510分,5题,共45分)4:分析计算(每题15分,1题,共15分),每章主要知识点,1、半导体原理2、半导体器件原理3、半导体设计基础4、半导体制造基础5、芯片互联和封装技术6、无源元件制造技术7、PCB设计和制造技术8、SMT技术基础,1、半导体物理基础,1.1 半导体的能带理论(分析导体、绝缘体、半导体的区别)1.2 半导体的载流子(种类、特点)1.3 本征半导体和本征激发1.4 杂质半导体的种类,p型和n型半导体的类型区别,主要掺入杂质的种类,多数载流子和少数载流子,施主杂质和受主杂质,补偿效应,1、半导体物理基础,1.5 载流子迁移(漂移)运动和扩散运动1.6 载流子浓度,费米能级的意义1.7 非平衡载流子:热平衡和非热平衡的区别,非平衡载流子载流子的特点,载流子的复合(种类,寿命,复合中心),2、半导体器件原理,2.1 pn结:pn结的形成,内电场,空间电荷区,pn结的电流电压特性,击穿的种类和原因;2.2 双极型晶体管(三极管):种类(pnp、npn),结构,分析其能够产生电流放大的条件,分析其开关特性的条件和原因2.3 场效应管晶体管(MOS管):场效应的原理,MOS管的结构,增强型和耗尽型、n沟道和p沟道-不同MOS管的工作开启电压条件2.4 CMOS管的结构,3、半导体设计基础,3.1 逻辑电路基础:基本逻辑运算(与,或,非,与非,或非)的运算法则、真值表、逻辑图(符号)、逻辑表达式、时序图,简单逻辑电路3.2 CMOS门电路:非电路,与非电路,或非电路,其他的逻辑电路转换为上面的三种电路的组合,3、半导体设计基础,3.3 集成电路的设计流程3.4 集成电路的版图设计:3.4.1 什么是关键尺寸(CD)?3.4.2 什么是基于“”的设计准则?3.4.3 什么是按比例缩小原则?有什么用?3.4.4 什么是摩尔定律?有什么用?3.5 集成电路的系统设计:3.5.1 设计方法有哪些?3.5.2 什么是ASIC?PAL?GAL?FPGA?,4、半导体制造基础,4.1 半导体级别硅的生产工艺4.2 单晶硅锭的生长工艺4.2.1 CZ拉伸法:原理,拉伸设备的结构4.2.2 悬浮区熔法:原理,设备结构4.2.3 两种方法的优缺点4.3 晶圆(wafer,硅圆片)的制造工艺4.4 洁净室的分类标准,4、半导体制造基础,4.5、氧化工艺:氧化工艺的种类(优缺点),适用于哪些应用;4.6、化学气相淀积(CVD):定义、种类4.6.1 外延:定义,外延的方法,外延的应用4.6.2 氮化硅:作用,主要工艺4.6.3 多晶硅:作用,主要工艺4.7、金属化:4.7.1 金属化的主要作用,材料4.7.2 金属化工艺:蒸发、溅射:原理,应用,4、半导体制造基础,4.8、光刻4.8.1 光刻胶的种类,优缺点,应用范围4.8.2 光刻工艺的主要步骤:成底模-涂胶-前烘-对准和曝光-后烘-显影-硬烘-检查,每步骤的主要目的4.8.3曝光光源种类,涂胶主要工艺,分辨率定义等4.9、蚀刻4.9.1 蚀刻的种类4.9.2 湿法刻蚀的特点,缺点4.9.3 干法刻蚀的特点,优点,缺点,种类,4、半导体制造基础,4.10、杂质注入4.10.1 扩散:原理、主要流程4.10.2 离子注入:原理,设备,特点4.11、CMP:化学机械抛光的原理4.12、CMOS集成电路的制作过程,5、芯片互联和封装技术,5.1 引线键合技术:WireBonding(WB)5.1.1、引线键合的定义5.1.2、引线键合的方式5.1.3、引线键合工艺的种类5.1.4、引线的材料5.2 载带自动焊技术:Tape Automated Bonding(TAB)5.2.1、定义5.2.2、与WB相比的优点5.3、倒装焊技术:Flip Chip(FC)5.3.1 定义5.3.2 特点,5、芯片互联和封装技术,5.4、封装的种类5.4.1 塑料封装和陶瓷封装的特点5.4.2 插装封装:SIP,DIP,PGA等5.4.2 贴装封装:SOP,SOJ,QFP,BGA,6、无源元件制造技术,6.1、无源元件的定义、种类6.2、薄膜成膜技术6.2.1、真空蒸发技术:原理,应用范围6.2.2、溅射技术:原理,应用范围6.2.3、膜厚监控技术:种类6.3、厚膜技术:6.3.1、厚膜浆料的成分和其作用6.3.2、厚膜工艺:印制(种类)烧结6.3.3、厚膜厚度的测试:方阻(定义,测试方法)6.3.4、微调技术:电阻微调技术种类,电容微调,6、无源元件制造技术,6.4、无源元件及其制造6.4.1 分类6.4.2 薄膜电阻的主要工艺6.4.3 电解电容的主要结构,铝电解电容的主要工艺6.4.4 集成式无源元件的优点6.4.5 嵌入式无源元件的优点,7、PCB设计和制造技术,7.1、PCB的基本术语:PCB、基板、单面板,双面板,多层板,焊盘,连接盘,导线,过孔,盲孔,沉孔等7.2、PCB设计准则7.2.1 设计流程7.2.2 元件布局准则7.2.3 布线准则,以及常见的布线时要避免的问题,7、PCB设计和制造技术,7.3 PCB制造工艺7.3.1 常见PCB基板材料:FR-1,FR-4,BT(基板材料,主要优点,应用范围)7.3.2 单面板制造流程7.3.3 双面板制造工艺:7.3.3.1 孔金属化的工艺种类7.3.3.2 双面板制造工艺种类,8、SMT技术基础,8.1 SMT技术概要8.1.1 相对THT技术的特点8.1.2 SMT主要工艺流程:单面全SMD;双面全SMD;一面SMD,另一面THC8.2 焊膏印刷技术8.2.1 焊膏的主要成分及其特点8.2.2 焊膏印刷的种类(丝网印刷,钢网印刷)8.2.3 刮刀的种类和材料8.2.4 印刷机的分类(手动,半自动,全自动的区别)8.2.5 点胶技术(贴片胶种类,点胶机种类),8、SMT技术基础,8.3 贴片技术8.3.1 贴片机的种类(高速,中低速)8.3.2 贴片机的供料器种类和应用范围8.3.3 贴片机的识别技术8.3.4 提高贴片机贴片速度的方法8.4 焊接技术8.4.1 回流焊技术8.4.1.1 回流焊炉的种类8.4.1.2 焊膏的回流焊温度曲线意义,调整8.4.2 波峰焊技术(焊机基本结构,功用),8、SMT技术基础,8.5 检测技术8.5.1 自动光学检测(AOI)技术8.5.2 其他检测设备,

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