曝光工艺流程示意图.ppt

,玻璃盖板 Cover Lens,ITO 氧化铟锡,PR,PR,ITO 氧化铟锡,8486302200 制造平板显示器用物理气相沉积装置在来料玻璃盖板表面镀一层 ITO 导电膜(氧化铟锡)用于导电，如图中黄色示意部分,真空镀膜机,玻璃盖板 Cover Lens,镀膜,在镀过 ITO(氧化铟锡)的玻璃表面均匀涂布一层感光光阻材料(PR,如图中蓝色示意部分)，然后再进行烘烤,涂布机,涂布,8486303900 其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置(制造平板显示器用的机器或装置)将掩膜版上的电路图图案，投影到涂布在 ITO 玻璃表面的感光光阻(PR)上,曝光机,UV灯,掩膜版,曝光产品,曝光,UV 光透过掩膜版，照射到曝光产品的感光光阻表面，掩膜版上透明的部分，UV光可以透过并照射到感光光阻上，使光阻产生反应。掩膜版上黑色不透明的部分，UV 光无法透过，故此部分的光阻不产生反应。从而使掩膜版上的电路图图案，投影到涂布在 ITO 玻璃表面的感光光阻(PR)上。,UV灯,掩膜版固定位置,曝光产品固定位置,UV灯,掩膜版,曝光产品,曝光,被照射部分,8486304900 其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置将显影液喷淋到曝光后的产品表面，显影液会将被UV光照射发生反应的感光光阻溶解掉，从产品表面去除，留下未被UV光照射的部分，保留在产品表面,显影机,显影,显影（显影机）,曝光后产品,被曝光部分,未被曝光部分,PR,蚀刻,蚀刻（蚀刻机）,8486304900 其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置将蚀刻液喷淋到显影后的产品表面，蚀刻液会将未被感光光阻 PR 覆盖部分的 ITO 蚀刻掉，留下被感光光阻 PR 覆盖保护的部分，保留在产品表面,蚀刻机,显影后产品,未被曝光部分,PR,ITO 氧化铟锡,剥膜,蚀刻后产品,剥膜（脱膜机）,8486304900 其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置将脱膜液喷淋到蚀刻后的产品表面，脱膜液会将未被UV光照射的感光光阻PR溶解掉，留下被保护的 ITO 部分，从而形成线路,脱膜机,