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    半导体器件物理第三章PN结作业.ppt

    • 资源ID:5097843       资源大小:1.02MB        全文页数:13页
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    半导体器件物理第三章PN结作业.ppt

    第三章作业题,2.硅突变结二极管的掺杂浓度为ND=1015cm-3,NA41020cm-3,在室温下计算:(1)内建电势差;(2)零偏压时的耗尽区宽度;(3)零偏压下的最大内建电场。,1.推导PN结空间电荷区内建电势差公式:,3.推导加偏压的PN结空间电荷区边缘非平衡少子浓度值公式:,4.推导杂质分布公式:,5.长PN结二极管处于反偏压状态,求解下列问题:(1)解扩散方程求少子分布np(x)和pn(x),并画出他们的分布示意图。(2)计算扩散区内少子存储电荷。,6.把一个硅二极管用做变容二极管,在结的两边的掺杂浓度分别为ND=1015cm-3,NA1019cm-3,求在反偏电压为1V和5V时的二极管势垒电容(忽略二极管截面积的影响)。,7.一理想硅p-n结二极管,NA=1016cm-3,ND=1018cm-3,p0=n0=10-6 s,ni=9.65109cm-3,Dn=30 cm2/s,Dp=2 cm2/s,器件面积为210-4 cm2,计算室温下饱和电流的理论值及0.7V时的正向和反向电流值。,8.采用载流子扩散与漂移的观点分析PN结空间电荷区的形成。,9.采用载流子扩散与漂移的观点分析PN结的单向导电性。,第二章作业答案,n,超量载流子注入一厚度为W的薄n型硅晶的一个表面上,并于另一个表面上取出,而其pn(W)=pno,在0 xW的区域里没有电场。,

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