Vray渲染速度慢的原因全解析.docx

Vray渲染速度慢的原因全解析 在VRAY中影响速度的因素涉及到很多方面，总的来说有;模型因素、材质因素，灯光因素，渲染设置因素等等，这些因素又彼此影响、互相制约。 一、模型因素 从光子的分布中可以得到答案：VRAY渲染引擎在模型的每个转角区域，都进行了密集的光子分布，如果模型相对简单，光子密集区域也较稀少。如果模型存在很多的转角，细节，则光子分布在转角区域也更加密集，正是这些密集的光子计算耗费了更多的渲染时间。由此可以得出结论;较为复杂的模型(特别是存在较多细小转角的模型)，会耗费更多的渲染计算时间。 小提示：模型的复杂程度对渲染的影响较大，这个问题可以说是"硬件伤"。有时候由于设计上的需要，无法避免复杂模型的出现。因此，只能通过合理地调整摄影机拍摄的角度，来使这类物体尽可能少地出现在摄影机的拍摄视野里。当然，这也要看这个物体是否是用户要表现的主体了。 二、材质因素 Vraymtl 材质中反射对速度的影响。 反射：颜色亮度值越高速度越慢，反射越强烈。 光泽度：这些值越低速度越慢，反射效果越模糊。 细分：此值越高速度越慢，模糊颗粒越细腻。 最大深度：次数越多速度越慢，反射 越丰富。 Vraymtl 材质中折射对速度的影。 折射：颜色亮度值越高速度越慢，折射越强烈。 光泽度：此值越低速度越慢，折射效果越模糊。 细分：此值越高速度越慢，模糊颗粒越细腻。 最大深度：次数越多速度越慢，折射越丰富。 半透明：常用于模拟"蜡"、"水"或者"3S"材质。开启会增加渲染时间。 VR贴图中反射对速度的影响 反射：通道强度值，此值越高反射越强烈。 光泽度：此值越低速度越慢，反射效果越模糊。 细分：此值越高速度越慢，模糊颗粒越细腻。 最大深度：次数越多速度越慢，反射越丰富。 VR贴图中折射对速度的影响 反射：通道强度值，此值越高折射越强烈。 光泽度：此值越低速度越慢，折射效果越模糊。 细分：此值越高速度越慢，模糊颗粒越细腻。 最大深度：次数越多速度越慢，折射越丰富。 三、灯光因素 灯光照明强度越大速度越慢。需要说明的是：不仅仅只在灯光强度中存在这个问题，对于Vray渲染引擎的(二次反弹)强度以及(天光)照明强度等都存在这个问题。 在Vray中的细分也决定着速度快慢，细分值越高，速度越慢，不过阴影效果也更加细腻。 小提示：在灯光方面影响渲染速度的因素除上述两点外，灯光数量的多少也会影响到渲染速度。在相同的渲染设置下，随着灯光数量的增加渲染速度也会变慢，这就是为什么夜景效果图的渲染时间往往要多于白天效果图的原因。 四、渲染设置因素 1、抗锯齿对渲染速度的影响 Vray渲染器为我们提供了3种不同的(图像采样器(反锯齿)方式，(反锯齿采样"的概念是指采样和过滤的一种算法，并产生最终的像素组来完成图像的渲染。严格地说，无论采用哪种采样方式都会增加渲染时间，因此所要考虑的是针对不则情况，不同场景使用不同的(图像采样器(反锯齿)来有效地节省渲染时间。以下是Vray官司方帮助中对不同场景使用不同(图像采样器(反锯齿)的建议，在此仅供参考。 固定图像采样器：这个采样器对于每个像素使用一个固定数量的样本。对于具有大量模糊特效或高细节的纹理贴图场景，使用(固定图像采样器)是兼顾图像品质与渲染时间的最好选择。在本书的实例中，笔者基本是使用这种(抗锯齿)方式的默认设置来进行测试渲染的。 自适应准蒙特卡洛图像采样器：这个采样器根据每个像素和它相邻像素的亮度差异产生不同数量样本。需要说明的是，此采样器没有自身的极限控制值，它受(Vray：rQMC采样器)中(噪波阈值)的制约，因此不可分开来看。当一个场景具有高细节的纹理贴图或大量几何学细节而只有少量模糊特效的时候，特别是这个场景需要渲染动画时，使用这个采样器是不错的选择。 (自适应细分图像采样器)对于没有Vray模糊特效(直接GI、景深、运动模糊等)的场景中，这个采用器是最好的选择。在室内效果图的制作中，这个采样器几乎可以适用于所有场景，是平衡时间与渲染品质的较好选择。 除以上3种"图像采样器"外，Vray还提供了多达14种的(抗锯齿过滤器)的选择，选择不同的(抗锯齿过滤器)对渲染速度也会有一不定的影响，因此笔者建议用户在渲染出图时使用默认的(区域)方式即可，然后将图像的锐化等工作留到后期处理时，在PS中完成，这也不失为一种提高工作效率的方法。 2、全局光引擎对渲染速度的影响 Vray渲染器共提共了4种不则的(全局光引擎)：即(发光贴图)、(光子贴图)、(准蒙特卡洛算法)和(灯光缓冲)等，这4种不同的(全局光引擎)可以在(首次反弹)和(二次反弹)中相互配合使用。在室内商业效果图的制作中，使用(发光贴图)配合(灯光缓冲)方式进行计算，是取得渲染时间与图像品质平衡的最好选择。在这里笔者只对这两种引擎进行讲述，至于其他渲染引擎的使用，有兴趣的用户可以自行测试。 在首次反弹中，(倍增器)：其值决定场景照明中首次漫射反弹的效果。增加这个值可以使渲染的图像更明亮，同时也会增加渲染时间。需要注意的是，默认值为1.0可以和蛭很好的效果，其他数值可能会造成计算结果不够准确。 在二次反弹选项中，(倍增器)：其值决定场景照明中二次漫射反弹的效果。增加这个值可以使渲染的图像更明亮，同时也会增加渲染时间。需要注意的是，默认值为1.0可以得到很好的效果，其他数值的计算结果可能会不够准确。当然，在此也需要根据实际情况酌情使用，看场景而定。 在(Vray：发光贴图)卷展栏中 (当前预置)提供了多达8种的预设模式用户选择，如无特殊要求，这些预置模式足够使用了。当然，也可以调整(基本参数)中的各项参数来达到更理想的效果。 (模型细分)：这个参数决定单独的GI样本品质。较大的取值可以得到平滑的图像效果，但是渲染时间也会增加，较小的取值虽然速度快，不过也可能产生黑斑。这个值受(Vray：rQMC采样器)的制约。 (插补采样)：定义用于插值计算的GI样本数量。较大的取值会得到平滑的图像效果，模糊GI的细分，也会增加渲染时间。较小的取值会产生更加光滑的细节，但同时也可能产生黑斑。 在(Vray：灯光缓冲)卷展栏中，(细分)决定有多少条来自摄影机的路径被追踪。较高的取值会增加渲染时间，不过计算结果也更加准确。 3、QMC采样器对渲染速度的影响 QMC就是"准蒙特卡洛"采样器。可以说它就像Vray渲染器的大脑，贯穿于V ray的每一种"模糊"评估中(抗锯齿、景深、间接照明、面积灯光、模糊反/折射、半透明以及运动模糊等)，QMC采样一般用于确定什么样的样本，以及最终哪些样本被光线追踪。