NCVM彩色非导电性镀膜工艺解析课件.ppt

NCVM 學習簡報,NCVM-Painting,NCVM 學習簡報NCVM-Painting,目 錄,技朮背景 工作原理 工藝流程 設備保養 新機調試 R F 測試,目 錄 技朮背景,技朮背景,VM：是Vacuum Metallization 的缩写，即真空镀膜。 按照成膜机理不同：VM分为PVD与CVD。PVD又有溅镀、 蒸镀、離子鍍之分。 按照镀膜功能不同：VM又有CVM与NCVM之分，即导电性 镀膜与非导电性镀膜-Non-conductive vacuum metallization TNCVM即为彩色非导电性镀膜工艺。PVD：是Physical Vapor Deposition的缩写，即物理氣相沉積。 它是在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、 分子、離子，直接沉積到工件表面的方法。蒸鍍：是在真空條件下，運用電阻加熱方式加熱蒸發物質，使之蒸發 成氣態，氣態粒子流直接射向工件，并在工件表面沉積成固態 薄膜的物理過程。,技朮背景VM：是Vacuum Metallization 的,技朮背景,技朮背景VMPVDCVDPCVDEVD蒸鍍濺鍍離子鍍,技朮背景,PVD優點,高金屬質感、艷麗飽滿的色彩效果優異的功能性(高硬度、高耐磨性)底材選擇多樣化：金屬、玻璃、塑膠制程良好的穩定性及再現性解決高光塗裝諸多外觀問題環保,技朮背景PVD優點高金屬質感、艷麗飽滿的色彩效果,技朮背景,降低物質的沸點和氣化點減少氣體分子之間的碰撞次數提高金屬蒸氣分子的平均自由程減少氣體、雜質，提供清潔工作條件減少空氣對金屬氧化等不良影響相對濺鍍附著力差、成本低、對工件形狀不敏感,蒸鍍工藝特點,技朮背景降低物質的沸點和氣化點蒸鍍工藝特點,技朮背景,中漆或面漆透過稀鬆VM金屬層與底漆直接接觸附著。,技朮背景 中漆或面漆透過稀鬆VM金屬層與底漆直接接觸附著。,真空定義： 1大氣壓下，1mol氣體(6.05*1023molecule)佔有22.4L 空間，相當於1cm3空間內有1019氣體分子，氣體對氣壁碰撞產生壓力，大小為760mm汞柱或稱760Torr。注意： 真空技術中，一密閉容器內保持真空，並不是指真正的空，也就是內部並非全無氣體。在所謂的高真空狀態下，仍有為數可觀的氣體。,技朮背景,真空定義：技朮背景,技朮背景,1atm(大氣壓) =760mmHg =760Torr =1.013105Pa =1013mbar =14.7psi =1.03327kg/cm2,真空單位：,技朮背景1atm(大氣壓)真空單位：,氣體分子密度： 表示單位體積氣體分子數目，與氣體壓力、溫度有關，一般在760Torr下，0 時，氣體分子密度為： 2.7*1019 molecule/cm3 由此推算： 0 時， 760Torr=2.7*1019 molecule/cm3 1Torr=3.55*1016 molecule/cm3 5*10-2Torr=1.78*1015 molecule/cm3 6*10-5Torr=2.13*1012 molecule/cm3,技朮背景,氣體分子密度：技朮背景,氣體分子自由程： 一個氣體分子相鄰前后兩次碰撞所經歷的路程。氣體分子平均自由程： 一個系統內所有氣體分子彼此碰撞所經經歷的平均距離，或者同一分子在規定時間內連續碰撞所經歷的平均值。 自然環境中，氣體分子一直在高速直線運動，常溫下速度為470m/s(約為音速)。因氣體分子密度高，分子一直在彼此碰撞，人感覺不到氣體分子在運動。真空環境下，氣體分子碰撞幾率降低，自由路徑加長。,技朮背景,氣體分子自由程：技朮背景,常溫下氣體分子平均自由程： 760Torr=3.72*10-8 cm 1*10-3Torr=5 cm 2*10-4Torr=25 cm 1*10-4Torr=50 cm 5*10-5Torr=100 cm 5*10-2Torr=0.1 cm 6*10-5Torr=83cm,技朮背景,蒸氣壓： 水蒸氣壓與溫度關系表：,常溫下氣體分子平均自由程：技朮背景蒸氣壓：壓力/Torr76,技朮背景,氣體負荷： 真空系統的目的，是要制造一個壓力低，氣體分子數目少的空間，真空室內氣體來源如下圖示：,技朮背景氣體負荷：,不同真空度，氣體負荷來源不同：10-1Torr以上，主要氣體負荷：原有體積氣體；10-1Torr10-3Torr：水蒸氣(來自真空桶壁與被鍍物)；10-4Torr10-6Torr：水蒸氣、CO、H2因此，真空度抽到10-4Torr時，真空腔若無漏氣，主要氣體來源是真空腔壁與真空腔內零組件表面釋放出的氣體，以及被鍍物本身的釋氣。,技朮背景,不同真空度，氣體負荷來源不同：技朮背景,技朮背景,真空區域劃分：真空指壓強小于101,325Pa低真空：1.013*105Pa1.33*103Pa(76010Torr)中真空：1.33*103Pa1.33*10-1Pa(1010-3Torr)高真空：1.33*10-1Pa1.33*10-6Pa(10-310-8Torr)超高真空：1.33*10-6Pa1.33*10-12Pa (10-810-14Torr),技朮背景真空區域劃分：,技朮背景,低真空：氣體分子數多，以熱運動為主，分子間碰 撞頻繁，平均自由程短；中真空：產生氣體導電現象，氣體流動由黏稠狀轉 換為分子狀，液體沸點降低引起劇烈蒸發， 分子間碰撞減少，平均自由程增加；高真空：分子按直線飛行，分子間碰撞大為減少， 氣體熱傳導與內摩擦已變得與壓強無關；超高真空：分子間極少碰撞，可歸為高真空范圍。,技朮背景低真空：氣體分子數多，以熱運動為主，分子間碰,DYC設備鍍膜原理： 1.將真空腔內空氣排出，一般真空度要求須達到2*10-4Torr以上，此真空度氣體的平均自由程25cm； 2.利用鎢絲把靶材(如Sn)加熱至氣化溫度； 3.氣化的Sn分子以相當於音速撞擊到被鍍物而附著， 若真空度太差，平均自由程不夠，則Sn原子氣化後有可能會碰撞到其它殘留氣體，而無法往被鍍物撞擊，會導致膜厚不足。,技朮背景,DYC設備鍍膜原理：技朮背景,技朮背景,電阻加熱方式： 用絲狀或片狀的高熔點金屬做成蒸發源，將蒸發物質 放在其中，接通電源利用電阻加熱蒸發物質使其蒸發的方 法。蒸發源的選用： 高熔點、低蒸氣壓，在蒸發溫度下不會與蒸發物質發 生化學反應或互溶但與蒸發物質潤濕效果好，且具用一定 的機械強度。同時，根據蒸發要求和蒸發源的特性，蒸發 源應保持一定的形狀。常用材料有：鎢(現用)、鉬、鉭、石墨、氮化硼常用形狀有：多股螺旋形(現用)、U形、正弦波形、 圓錐管形、薄板形、舟形,技朮背景電阻加熱方式：,常用蒸發單質:,技朮背景,元素熔點/蒸發溫度/蒸發源絲片坩堝Ag9611030T,技朮背景,常用蒸發化合物:,技朮背景化合物熔點/蒸發溫度/蒸發源材料蒸發物Al2O3,Sn：第五周期,A族 熔點：231.89 沸點：2260 密度：白Sn:7.28g/cm3 灰Sn:5.75g/cm3 脆Sn:6.54g/cm3 特性：延展性好，空氣中表面 生成SnO2而穩定，緩慢 溶於稀酸，能溶於強鹼,技朮背景,In：第五周期,A族 熔點：156.61 沸點：2080 密度：7.30g/cm3 特性：稀散元素之一，有延展 性，空氣中很穩定，易 溶於酸、鹼，不能分解 水,50Sn5s25p2118.7,49In5s25p1114.8,Sn：第五周期,A族技朮背景In：第五周期,A族50Sn,工作原理,DYC蒸鍍設備示意,工作原理DYC蒸鍍設備示意,技朮背景,DYC-1318BSD設備示意,技朮背景名稱意義控制屏閥門黑色閥門打開控制屏閥門白色閥門關閉,1#真空門示意圖,2#真空門示意圖,工作原理,真空桶示意,1#真空門示意圖2#真空門示意圖工作原理真空桶示意掛具電極桿,適量的擴散油在擴散泵底部加熱器加熱后成為油蒸氣，當油蒸氣充滿噴射筒后從細縫噴射而出，噴射出的高速油蒸氣分子向下撞擊空氣分子使之集中于擴散泵下半部並從下部的擴散出口管路被機械泵抽走。撞擊后的油蒸氣接觸泵壁后冷凝并流入底部的加熱器。循環此過程，可以達到持續不斷的排氣效果。,油擴散泵工作原理,工作原理,適量的擴散油在擴散油擴散泵工作原理工作原理,在泵腔內有兩個”8“字形的轉子相互垂直地安裝在一對平行軸上，由傳動比為1的一對齒輪帶動做彼此反向的同步旋轉運動。在轉子之間、轉子和泵殼內壁之間，保持有一定的間隙(0.20.3mm)，以保証轉子高速運行。一般對工作氣體中的灰塵和水蒸氣不敏感。終極真空度達5*10-3Torr。,魯式泵工作原理,工作原理,在泵腔內有兩個”8“字形的轉子相互垂直地安裝在,是一種變容式壓縮機，抽真空能力一般從760Torr1*10-2Torr泵腔內有轉子，通過轉子來壓縮空氣。通常需要使用油冷(冷卻介質是空氣和水)，同時達到密封的作用。,油回轉泵工作原理,工作原理,是一種變容式壓縮機，抽真空能力一般從760To,當真空度抽到10-1Torr時，真空桶內大部份都是水 蒸氣，由水蒸氣壓與溫度關系知若桶內有一溫度很低的表面足以凝固水蒸氣分子，則可提高真空度。Polycold實質是一台“高性能的冷水機”，也有冷凝器和蒸發器，利用高性能的冷凝劑可以達到-120，以使真空桶中的水蒸氣快速高效冷凝成液態，并由收集器收集。 真空度與最低冷凍表面溫度對照表：,POLYCOLD工作原理,工作原理,當真空度抽到10-1Torr時，真空桶內大部份,工作原理,POLYCOLD工作原理,TC1：壓縮機溫度,TC2：冷卻水溫度,TC3：進DP溫度,TC4：出DP溫度,TC7：出Polycold溫度,TC8：進Polycold溫度,正常情況下：TC3應TC7 TC4應TC8,工作原理POLYCOLD工作原理TC1：壓縮機溫度TC2：冷,熱偶真空計：THERMO GAUGE 利用真空中發熱體之熱傳遞與氣體數目多少成正比的關系，依據熱漏失量的多少，來反求真空度的高低。一般熱偶真空計中熱偶溫度變化與真空度高低並不是呈等比變化，變化較靈敏的取區域在20Torr5*10-3Torr。一般熱偶真空計利用這段顯示溫度。注意：a.避免碎片進入感測頭 b.若有鍍膜附在加熱燈絲上，將會造成真空讀數不準。 c.探測頭受污染，可用酒精、丙酮或超音波稍加清洗，避免劇烈振動。 d.探頭內部加熱燈絲與TC線焊接相當脆弱，嚴禁使用它物進入攪拌清洗。,工作原理,真空計原理,熱偶真空計：THERMO GAUGE工作原理真空計原理,冷陰極真空計：PENNING GAUGE 此真空計是在探測頭內，陰陽極間加以高電壓，導致輝光放電的維持。再依放電電流大小量測來作為真空度的指示，而外面加上磁場，造成電子成螺旋狀運動，增長電子運動路徑以增加電子與氣體分子碰撞機會，促使產生更多離子以增大電流信號。冷陰極真空放電電流與真空度高低並不成等比變化，在大氣壓時不放電，一般量測范圍在10-210-8Torr，超過10-8Torr後，放電電流太小，無法精確量測。,工作原理,真空計原理,冷陰極真空計：PENNING GAUGE工作原理真空計原理,冷陰極真空計使用注意： a.較高真空時不易開機，需等候數秒至數分才可精確量測 b.真空度顯示值劇烈晃動時，表示探測頭內部嚴重污染，必須清洗。 c.若真空度顯示值總是在10-2Torr(放電電流大)，且確定真空系統已到高真空，表示陰陽極有短路現象，造成持續放電(可檢查連接線是否短路)。 d.若真空度顯示值總是在10-8Torr(不放電)，有可能是電線未接好或探頭污染造成，應檢查高壓連接線或清潔探頭。 e.探測頭污染時可用菜瓜布或細砂紙擦亮，再以丙酮等清洗烘幹即可。,工作原理,真空計原理,冷陰極真空計使用注意：工作原理真空計原理,CH2全領域探測頭之校正： CH2由1支低真空計與1支高真空計組合，低真空計從750Torr開始量測，當真空度高於7*10-3Torr時啟動高真空計，當真空度高於7*10-4Torr時真空度讀值轉成高真空計讀值。 1.低真空計在使用一段時間後，因污染等因素常會造成量測誤差大增，有時甚至導致實際真空度已優於1*10-4Torr，但因低真空計的讀值錯誤而無法顯示至高真空計讀值，造成真空設備無法正常運作。此時應校正低真空計： a.將真空度抽至1*10-4Torr以上，並持續再抽10min以上，此時CH2真空度讀值應是高真空計顯示值；,工作原理,真空計校正,CH2全領域探測頭之校正：工作原理真空計校正,b.將全領域探測頭銘牌逆時針轉30o； c.用直徑約3mm塑膠棒輕壓，此時CENTER TWO的CH2顯示值將轉為低真空計讀值； d.若此時CH2真空度顯示值不是3.5*10-4Torr，用1.5mm一字螺絲刀，左右旋轉至顯示值3.5*10-4Torr。 2.低真空計在大氣壓環境下，讀值應為750Torr，誤差較大時也需校正： a.將真空腔破真空，並等待10min； b.將全領域探測頭銘牌順時針轉30o； c.用螺絲刀，左右旋轉至顯示值750Torr。,工作原理,真空計校正,b.將全領域探測頭銘牌逆時針轉30o；工作原理真空計,CH1低真空計探測頭之校正： a.在大氣環境下，若真空計讀值與750Torr誤差很多時需校正，以校正觸棒輕壓校正孔內按鍵5S即可。 b.CH1在高真空校正點需在高真空環境下進行，需將CH1低真空探測頭從管路位置移到高真空閥上方預留接口。 c.當真空腔真空度達1*10-4Torr時，此時CH1顯示約為3.5*10-4Torr，若差距很多需校正，參照CH2低真空計校正方法進行調整。,工作原理,真空計校正,CH1低真空計探測頭之校正：工作原理真空計校正,工作原理,真空設定點設定,PARA,CH,SP1 2 3 4,PARA,PARA,SP1 2 3 4,連續按此鍵直到顯示PArA SP,連續按此鍵直到顯示CH2,按此鍵設定為5*10-2Torr,按此鍵設定為8*10-2Torr,第一設定點設定：粗抽轉細抽,CH,SP1 2 3 4,PARA,PARA,SP1 2 3 4,連續按此鍵直到顯示CH2,按此鍵設定為10Torr,按此鍵設定為15Torr,第二設定點設定：MP待速轉全速,工作原理真空設定點設定PARACHSP1 2 3 4PARA,工作原理,真空設定點設定,CH,SP1 2 3 4,PARA,PARA,連續按此鍵直到顯示CH2,按此鍵設定為1*10-4Torr,按此鍵設定為8*10-4Torr,第三設定點設定：開始蒸鍍,SP1 2 3 4,SP1 2 3 4,PARA,PARA,SP1 2 3 4,無設定,無設定,PARA,工作原理真空設定點設定CHSP1 2 3 4PARAPARA,工作原理,真空探測頭設定,PARA,CH,PARA,PARA,連續按此鍵直到顯示PArA Sen,連續按此鍵直到顯示CH1,FiLt SLo,Gas n2,PARA,按 設定為FiLt SLo:真空度反應緩慢,按 設定為Gas n2:量測氣體為 N2,CH1探測頭設定,PARA,CH,PARA,PARA,連續按此鍵直到顯示PArA Sen,連續按此鍵直到顯示CH2,FiLt SLo,Gas n2,PARA,按 設定為FiLt SLo:真空度反應緩慢,按 設定為Gas n2:量測氣體為 N2,CH2探測頭設定,工作原理真空探測頭設定PARACHPARAPARA連續按此鍵,工作原理,一般性參數設定,PARA,PARA,PARA,連續按此鍵直到顯示PArA GEn,RS232傳輸速率設定,unit Torr,diGit 3,PARA,按 設定為Torr:真空度顯示單位為Torr,按 設定為3:真空度顯示值為三位數,PARA,bAud 9600,dEF,所有設定值回復至原廠設定,PARA,Ao Lin-7,按 設定為Lin-7:類比輸出訊號設定,PARA,Err-r,錯誤訊息回報,PARA,工作原理一般性參數設定PARAPARAPARA連續按此鍵直到,離開蒸發材料表面，具有相當運動速度(相當於音速)的氣態粒子以基本上無碰撞的直線飛行到工件表面,到達工件表面的氣態粒子凝聚成核并生長成固相薄膜,組成薄膜的原子重組排列或發生化學鍵合作用,利用大電流將電能轉化成蒸發材料的內能，使靶材先熔化再蒸發(或直接升華)，使之成為具有一定能量(0.10.3eV)的氣態粒子(原子分子或分子團),工作原理,蒸鍍原理,離開蒸發材料表面，具有相當運動速度(相當於音速)的氣態粒子以,工藝流程,工件清潔底涂NCVM中涂著色(選用) 面涂生產環境：優於10萬級無塵環境(現為1萬級)底、面塗一般使用UV漆，中塗有UV也有PU,工藝流程工件清潔底涂NCVM中涂著色(選用) 面涂,打開總電源開啟冰水機打開Polycold電源打開VM設備電源進入操作界面選擇國語選擇目錄選擇排氣系統選擇開機預熱50min開始蒸鍍,選擇排氣系統選擇關機冷卻50minVM自動停機斷開VM設備電源斷開PolyCold電源 斷開冰水機斷開總電源,工藝流程,開機順序,關機順序,Polycold停機，DP待機打開油回轉泵氣鎮閥30min后打開Polycold,Polycold除霜順序,打開總電源開啟冰水機打開Polycold電源打開VM設,將已鍍挂具取下，掛於掛具周轉車中,将靶材固定于钨丝中部,打開已鍍倉門，關好待鍍倉門并按下啟動開關,固定時以轻按方式检查钨丝是否脆裂、脱落(如有及時更換),吸塵器、無塵紙清洁炉体,将掛好產品的待鍍挂具上挂到蒸鍍機圓盤上,圓盤自轉23周，觀察有無靶材和產品掉落,打開已鍍倉門，關好待鍍倉門并按下啟動開關,工藝流程,上下掛作業流程,將已鍍挂具取下，掛於掛具周轉車中将靶材固定于钨丝中部打開已鍍,将Sn絲拉直平放在治具上,對齊定位后依照標尺切斷Sn丝,根据长度要求制作好切割治具,用钳子弯折切好Sn丝两头并壓扁,逐一将切壓好的Sn丝称重,将称重OK的Sn丝真空包装,包装上標明型號、日期、長度等(待用品必須於7日內使用),工藝流程,Sn絲加工作業流程,将Sn絲拉直平放在治具上對齊定位后依照標尺切斷Sn丝根据长,1.Sn絲應密封保存，切割時戴口罩手套(防止Sn氧化)。2.鎢絲安裝時應無間隙(便于安裝靶材)，相鄰鎢絲結合處要前后對稱(保持 蒸發量均勻)。3.安裝Sn絲時要戴口罩，手套(防止氧化)，Sn絲安裝必須到位(防止掉落)。4.上下挂時要從下取從上放(防止掉落時損壞產品)，絕對避免碰撞產品。5.每爐生產完必須清潔真空倉內部。6.已鍍产品进入下一制程前的等待時間应控制在8h内，防止产品镀膜被氧化。7.空鍍可以穩定制程：早晚班交接后、換靶材品種后、更換新電極后。8.溫度/濕度：1828，30%70%RH(濕度超過70%后，抽真空較慢)。9.靶材重量是影響鍍膜品質的關鍵因素，建議開發專用切割治具用於靶材加工。,工藝流程,作業注意事項,1.Sn絲應密封保存，切割時戴口罩手套(防止Sn氧化)。工,小件產能可達2800pcs/爐，與大件70280pcs/爐相比，蒸鍍工藝有如下差異： a.小件生產時通入 Ar，目的是讓蒸鍍時，爐腔內靶材原子分布得更加均勻， 以確保產品鍍膜均勻；而大件生產時，一般不通入Ar； b. Ar 自蒸鍍開始即通入，流量約為150cm3/min，故小件蒸鍍時真空度低於大件 c.小件生產時，產品隻進行順時針或逆時針的單向旋轉； d.相比大件，小件蒸鍍的預熱、熔化兩段時間長、電壓高；而蒸發、冷卻兩段 時間較短。,工藝流程,大、小件蒸鍍對比,小件產能可達2800pcs/爐，與大件70280pcs/,DYC-1318BSD 1.9cm Sn 絲B機台設定參數(機台不同參數不同),注：把C段時間調成零后可以觀察到經過AB段處理的靶材情況，如收縮 成球狀則表面溶解效果差，如過早蒸發或滴落則是電壓時間過大。,工藝流程,蒸鍍流程說明,蒸鍍階段(作用)電壓/%電壓影響時間/s時間影響電壓過大電壓,工藝流程,常見不良,工藝流程不良項目原因改善對策產品環境濕度高降低環境濕度，控制,蒸鍍鍍膜設備DYC-1318BSD-2C主體構成： 真空系統：真空泵、真空計、真空管路、真空閥門等 動力系統：控制柜、變壓器等 加熱系統：DP加熱、Polycold等,Sn絲稱重儀器(電子秤)： SHINKO MAX:620g D=0.001g,真空包裝儀: SinBo，Vacuum sealer,設備保養,設備構成,蒸鍍鍍膜設備DYC-1318BSD-2C主體構成：Sn絲稱重,設備保養,DP規格,設備保養構造低碳鋼排氣速率3500L/Min終極真空度10-,設備保養,日保養項目,設備保養1.檢查冷卻水循環是否正常各分流水管是否有水流2.,設備保養,周保養項目,設備保養日常保養1.拆下所有內襯板清潔並裝上另一組新的內襯板,設備保養,月保養項目,季保養項目,設備保養1.冰水機儲水罐換新水，清潔內壁2.拆洗電極棒并裝回,設備保養,年保養項目,三年保養項目,設備保養1.清潔油回轉泵油室與檢查排氣閥是否正常并更換油2,設備保養,故障可能原因與排除,設備保養故障現象原因說明措施對策油回轉泵終極漏氣RP ON,設備保養,設備保養故障現象原因說明措施對策真空速度慢真空門未關好檢查桶,設備保養,錯誤代碼及意義,設備保養錯誤代碼意義0MP正在運轉，要先停止MP1DP正在運,1.氣密性測試必須達標，可在空載抽真空達到610-7Torr時，停止抽真空作業，參考設備出廠檢驗數據觀察真空泄漏速度是否達標，不達標時要調整到達標。氣密性是整個真空作業的基礎，必須達標。常壓時看真空計顯示是否為750Torr來檢驗真空計是否工作正常。2.圓盤轉速調整是為了達到14列產品列間鍍膜膜厚均勻，一般要保証靶材蒸發時間是圓盤自轉一周時間的整數倍(可適當延長13s)。當出現連續几列產品品質異常時應考慮自轉速度設定是否有問題。3.調整電極位置以達到5層產品鍍膜的均勻。正面電極影響大，頂部和底部需要增加補償電極。一般電極10組，現在采用18個半組。調試時用小量靶材(1.0cm)，挂具整體挂一層PE膜，可以突出對比效果。4.靶材用量選擇是可以調整產品局部區域膜厚達到均勻。頂部和底部電極可以適當加大靶材用量以達到補償作用。,新機調試,鍍膜均勻性調試,1.氣密性測試必須達標，可在空載抽真空達到610-7Tor,1.靶材的品質要求純度99.99%以上(Sn)，真空包裝。2.靶材的重量： 直徑一定的Sn絲管控長度即可達到管控重量的效果。現在管控范圍為3內。 切割精度分析：正態分布統計，加強加工人員訓練。 電子稱的靈敏度要達到0.001g。 GR&R分析切割方法，一致性需90%。3.殘留的靶材： a.鎢絲間隙如有殘留時須檢查：鎢絲有無變形、固定鎢絲的螺絲有無鬆動、外部電壓有無變化、電極參數有無變化。 b.滴落爐底的靶材殘留及時清理。4.爐體清潔：清潔真空膠圈、及時清理殘留物、每班開機後生產前必須空鍍一爐。5.設備運轉：保証日、周、月、季、年保養正常進行及確認保養效果。,新機調試,鍍膜穩定性調試,1.靶材的品質要求純度99.99%以上(Sn)，真空包裝。,新產品靶材用量選擇時應注意：Ar會引起真空倉氣流紊亂，盡量少用通過DOE試驗尋找靶材用量的示意圖如下：,高溫高濕測試失效區間,RF測試失效區間,OK區間,新機調試,新產品靶材用量調試,靶材重量,低,高,新產品靶材用量選擇時應注意：Ar會引起真空倉氣流紊亂，盡量少,RF測試,a.與客戶確認測試區域，此區域一般在天線附近；b.開發測試定位治具：治具確保產品波形位置固定，便於與素材波形對比；c.對治具進行穩定性驗証(使用同一素材多次測試以驗証治具穩定性)；d.制作不同RF限度樣品，含OK,NG以及臨界狀態的樣品約3050pcs給客戶確認；e.依客戶確認的樣品進行測試人員GR&R培訓，一致性須90%。,開發流程,RF測試a.與客戶確認測試區域，此區域一般在天線附近；開發流,目前測試方法有用於隨線測試的Stud Scanner(導電測試)以及產品終檢的Agilent ENA(網絡分析儀測試)。,以Moto為例，其GSM測試頻段為8001600MHZ,RF測試,開發流程,產品RF曲線(圖中虛線)隻要不碰撞上下兩實線則RF測試OK。,目前測試方法有用於隨線測試的Stud Scanner(導電以,S11:輸入端反射系數(輸入匹配)S22:輸出端反射系數(輸出匹配)S21:正向傳輸系數(增益/差損)S12:反向傳輸系數(隔離),S參數(散射參數)可以全面直觀表示一個器件(系統)的性能指標,RF測試,Agilent ENA網絡分析儀,a1b2a2b1outS11S21S12S22S11:輸入端,網絡分析儀主要由以下4部分組成： 1.激勵信號源：提供被測件激勵輸入信號； 2.信號分離裝置：含功分器和定向耦合器件，分別 完成被測件輸入和反射信號提取； 3.接收器：對被測物的反射、傳輸、輸入信號進行 測試比較； 4.處理顯示系統：完成對被測件測試結果進行處理 和顯示。,RF測試,Agilent ENA網絡分析儀,網絡分析儀主要由以下4部分組成：RF測試Agilent EN,RF測試,Agilent ENA網絡分析儀,網絡測試儀的工作原理： 類似理解光線在透鏡中的傳輸過程可以便于理解網絡測試儀的工作原理： RF信號的傳輸過程和信號源產生的信號通過功分器分為兩路信號：一路直接進入R接收器(專門測試被測物輸入信號信息)；另一路輸入到被測件相應測試口，并 在被測件表面發生反射，被測件反射信號和輸入信號在同一物理路徑上傳播，定向耦合器可以把同一物理路徑上相反方向傳播的信號進行分離，提取的反射信號進入A接收機(專門測試被測物反射后的信號信息)。,RF測試Agilent ENA網絡分析儀網絡測試儀的工作原理,網絡測試儀測試步驟：1.設置儀表的工作狀態：主要有測試的掃描方式、 測試頻率、功率范圍、測試點數、測試時間等2.校准3.確定測試指標和顯示方法4.顯示結果的讀數和分析5.測試結果的存儲,RF測試,Agilent ENA網絡分析儀,網絡測試儀測試步驟：RF測試Agilent ENA網絡分析儀,THE END,THE END,